ООО НПК "ТехМашСервис"

Прямой работодатель   ·   На сайте с 2023 года   ·   elmsrv.ru

Сфера нашей деятельности - разработка и изготовление оборудования для производства изделий радиоэлектронных компонентов, а также модернизация существующего оборудования.

Основные направления деятельности:

• диффузионное оборудование;

• оборудование для осаждения пленок из газовой фазы при пониженном давлении с плазменной активацией;

• оборудование для окислительных процессов;

• модернизация оборудования для проведения процессов диффузии, окисления, осаждения (Оксид, СДОМ, ТМХ, Изотрон, Термоком, Изоплаз и д.р);

• Разработка и изготовление оборудования по Техническому заданию;

• Гарантийное и послегаранттийное обслуживание выпускаемого и модернизируемого оборудования.

Нестандартное физико-термическое оборудование, например, для ростовых процессов арсенида галлия, карбида кремния и других оптических и полупроводниковых материалов;

В договоры может быть включена постановка базовых технологий;

Широкие кооперационные связи;

Высокое качество изготовления нестандартных узлов из коррозионно-стойкой нержавеющей стали, сварные изделия отжигаются, сварные швы осветляются;

Нами разработано оборудование для специальных процессов, связанных с изготовлением радиационно-стойких полупроводниковых приборов;

Для процессов термических LPCVD, PECVD разработка устройств для легирования с использованием малотоксичных веществ;

Мы можем предоставить возможность ознакомиться с разработанным нами действующим оборудованием;

Модернизация с систем управления с одновременным переходом на более современные технологические процессы, которые обеспечивают лучшую воспроизводимость, равномерность осаждения и конформность покрытий. Например, для осаждения нитрида кремния используется дихлорсилан взамен моносилана, для пассивации ИС осаждение в плазме двуокиси кремния или ФСС разложением тетраэтоксисилана (ТЭОС) вместо процесса LTO (пиролиз моносилана с окислением кислородом);

На протяжении 25 лет мы разрабатываем и модернизируем оборудование для микроэлектроники

Нами разработано следующее промышленное оборудование:

• установки для осаждения диэлектрических слоев при пониженном давлении (LPCVD);

• установки для низкотемпературного осаждения нитрида кремния и двуокиси кремния с плазменной активацией процесса (PECVD);

• установка для жидкостной эпитаксии арсенида галлия;

• установка для диффузии в кремний лития;

Мы также проводим работы по двум видам модернизации оборудования:

1. После согласования технического задания с заказчиком производится полная замена всей системы управления с минимальной длительностью периода отключения оборудования. Такие работы проведены на диффузионных печах на ВЗПП (г. Воронеж) и в объединении "Интеграл" (г. Минск).

2. Второй вид модернизации включает существенное изменение конструкции установки. Так в ОАО "Кремний" (г. Брянск) и на заводе "Оптрон" (г. Орел) в установках Изотрон 4 один из трех реакторов для осаждения диэлектрических слоев при пониженном давл